很少有研究者關(guān)注電解池的槽壓，這是因?yàn)榇蟛糠蛛娊獬伢w系都是基于導(dǎo)電性較好的水溶液體系或者是兩電極系統(tǒng)。然而，當(dāng)電流較大、電解液電導(dǎo)率較低又或者輔助電極被多孔陶瓷隔開時(shí)，參比電極和輔助電極之間的電壓降會非常顯著，槽壓就成了一個(gè)非常重要的參數(shù)。

如上圖所示：在一個(gè)三電極體系中，電流是在工作電極W和輔助電極C之間流動，測量的電壓是工作電極W與參比電極R之間的電勢差，而工作電極W與輔助電極C之間的電壓稱為槽壓。假設(shè)圖片所示電流為10mA，此時(shí)測量電壓為10V，而槽壓卻高達(dá)60V。如果電化學(xué)工作站的槽壓不夠高，那么它將無法施加所指定的電壓或者電流。

電化學(xué)工作站化學(xué)測試中的那些*高壓

例如下圖中：Joffrey1為了研究Al?Cu?Fe 和 MgZn?在硫酸溶液中的腐蝕行為，其極化電壓就高達(dá)20V，而其槽壓將*過20V。

而Rocca2等為了研究鎂合金微弧氧化的過程，更是將施加電壓從0V掃描到80V（如下圖）。

*近也有不少電催化的研究體系，由于樣品電流密度較大，在H型電解池里槽壓可以高達(dá)30V以上。其他高槽壓體系還包括鋼筋混凝土、有機(jī)溶液電化學(xué)和電池堆。

[1] Rocca J . Electrochemical behavior of intermetallic phases in sulfuric acid at high voltage – anodization of Al7Cu2Fe and MgZn2 phase.

[2] Rocca et al, In-situ electrochemical characterization of “discharges initiation” during micro-arc oxidation of Mg alloys.

[3] Sarah et al, RSC Adv., 2019,9, 29305-29311

三大“高手”助力高功率測試需求

Echemlab/PARSTAT4000A/PARSTAT3000A系列是電化學(xué)工作站當(dāng)中當(dāng)之無愧的三大“高手”，其槽壓分別高達(dá)100V/48V/30V。特別是PARSTAT4000A，不僅具有高槽壓，還兼具±4A的高輸出電流，特別適合高功率體系的測試需要。